[SK하이닉스 i-tap] HARC Etch 공정에서 OES Full Spectrum을 이용한 EPD Modeling

직책: 연구 책임자

기간: 2021. 06 ~ 2021. 10

연구 필요성

Etch 공정에서 발생하는 Optical Emission Spectroscopy (OES) 데이터는 End Point Detection (EPD)와 관련된 정보를 포함하고 있다. 서로 다른 챔버에서 발생한 OES 데이터는 서로 상이한 모습을 보인다. 여러 챔버에서 공통적으로 적용할 수 있는 EPD 알고리즘 개발이 필요하다.

연구 목적 및 내용

OES spectrum data를 통해 EPD를 수행한다.  OES data로부터 EPD에 영향을 끼치는 독립파장을 선별한다. 특히, OES data로부터 발견한 주요파장 외에 다른 파형을 가진 독립파장들을 추출하고자 한다.

기대 효과

Data Drift 및 설비 노후화로 서로 다른 모습을 보이는 챔버에서 공통된 알고리즘을 적용할 수 있다. 주요 파장 이외에 EPD에 영향을 주는 다양한 독립파장을 관리할 수 있다.